99,95 molybdène pur molybdène produit moly tôle moly plaque moly foil dans les fours à haute température et équipement associé
Paramètres du produit
| Article | feuille / plaque de molybdène |
| Grade | MO1, MO2 |
| Taille de stock | 0,2 mm, 0,5 mm, 1 mm, 2 mm |
| MOQ | roulement chaud, nettoyage, poli |
| Action | 1 kilogramme |
| Propriété | anti-corrosion, résistance à haute température |
| Traitement de surface | Surface de nettoyage alcaline lamelle à chaud |
| Surface polonaise électrolytique | |
| Surface à froid | |
| Surface usinée | |
| Technologie | Extrusion, forger et rouler |
| Test et qualité | inspection des dimensions |
| test de qualité d'apparence | |
| Test de performance du processus | |
| Test de la bonne appropriation | |
| La spécification serait modifiée par les exigences des clients. | |
Spécification
| Largeur, mm | Épaisseur, mm | Déviation d'épaisseur, min, mm | Planéité,% | |||
| <300 mm | > 0,13 mm | ± 0,025 mm | 4% | |||
| ≥300 mm | > 0,25 mm | ± 0,06 mm | 5% -8% | |||
| Pureté(%) | Ag | Ni | P | Cu | Pb | N |
| <0,0001 | <0,0005 | <0,001 | <0,0001 | <0,0001 | <0,002 | |
| Si | Mg | Ca | Sn | Ba | Cd | |
| <0,001 | <0,0001 | <0,001 | <0,0001 | <0,0003 | <0,001 | |
| Na | C | Fe | O | H | Mo | |
| <0,0024 | <0,0033 | <0,0016 | <0,0062 | <0,0006 | > 99.97 | |
Spécification
| Spécifications pour le fil de molybdène: | ||
| Types de fil molybdène | Diamètre (pouce) | Tolérance (%) |
| Fil de molybdène pour EDM | 0,0024 "~ 0,01" | ± 3% WT |
| Fil de pulvérisation molybdène | 1/16 "~ 1/8" | ± 1% à 3% en poids |
| Fil de molybdène | 0,002 "~ 0,08" | ± 3% WT |
| Fil de molybdène (propre) | 0,006 "~ 0,04" | ± 3% WT |
Gamme de spécifications
1) Épaisseur:Plaque à chaud: 1,5 ~ 40 mm;Assiette / feuille de rouleau à froid: 0,05 ~ 3,0 mm
2) Largeur:Plaque roulée à chaud: ≤750 mm;Plaque / feuille à froid: ≤ 1050 mm;
3) Longueur:Plaque à chaud: ≤3500 mm;Plaque / feuille à froid: ≤2500 mm
Application
| Classification | Fonctionnalité | Champ de candidature |
| Plaque Pure Mo | Point de fusion élevé, haute pureté, faible expansivité thermique, excellente conductivité thermique, performances de soudage et procédabilité | Target de pulvérisation du faisceau d'électrons (ion) largement utilisé, pièces de rechange pour machine d'implantation ionique, dissipateur thermique de semi-conducteur, parties de tube électronique, équipement MOCVD et dispositif médical, zone chaude, creuset et éléments de support pour le four à cristal saphir, le chauffage, Bouclier thermique, élément de support et bateau pour le four de chauffage à blindage sous vide et hydrogène |
| Plate de MO pure traitée à haute température | Puture de haute Pure | Convient à la fabrication de la plaque de base pour la céramique électronique de précision et le matériau de la terre arrière |
| Plaque MO dopée au lanthane | En utilisant un mécanisme de renforcement de la dispersion d'oxyde, une certaine déformation plastique pourrait être effectuée à température ambiante après avoir été traitée à haute température en raison de sa forte résistance, de sa température de recristallisation élevée et de sa résistance à haute température et de sa fraginité de recristallisation améliorée et une capacité anti-déformant à haute température | Particulièrement adapté à la fabrication de composants utilisés dans plus de 1500 ℃ Environnement de travail, comme le radiateur, le bouclier thermique, la plaque de base et le bateau pour un four à haute température |
| Plaque MO dopée au lanthane traitée à haute température | Excellente résistance à haute température et déformation à haute température à haute température en raison de son effet de renforcement de la dispersion d'oxyde et de la structure spécifique | Convient pour fabriquer une assiette de base pour la céramique fine de frittage et la céramique de la terre arrière, une grille de roulement, une plaque de base et un pelage pour le four de chauffage à haute température |
| Assiette de MO dopée | Résistance à haute température, faible température de recristallisation et excellentes performances résistantes au fluage à haute température en raison de son mécanisme de renforcement de la bulle de potassium | Particulièrement adapté à la fabrication de produits avec un fluage à faible température à faible température, tels que des composants pour le tube électronique, le radiateur, le bouclier thermique, etc. pour un four à haute température |
| Plaque do dopée traitée à haute température | Fluage à faible température à haute température en raison de sa structure échelonnée à grains longs et de sa grande pureté | Convient pour fabriquer des produits avec une forte exigence de pureté et de fluage à haute température, telles que la plaque de base pour la céramique électronique de frittage ou de traitement thermique, d'éléments de support dans le tube électronique, etc. |
| Plaque Pure MO pur | Anisotropie faible et bonne performance de flexion | Particulièrement adapté à l'allongement, à la rotation, au renforcement et à la flexion, et à la création de Mo en allongement ou en rotation, les pièces MO doivent renforcer ou se plier, comme une feuille ondulée, une pièce de flexion, un bateau MO, etc. |
| Plaque Pure MO pure roulée traitée à haute température | Anisotropie faible et bonnes performances de flexion en plus des mêmes performances de la plaque MO dopée au lanthane | particulièrement adapté au renforcement et à la flexion, et à la fabrication de pièces de MO renforcées ou enfouies avec des besoins à haute température, tels que la zone de chauffage, les pièces fabriquées en forme, le bateau MO à haute température, etc. |
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